Spektrometr fotoelektronów emitowanych pod wpływem naświetlania promieniowaniem rentgenowskim (XPS) lub ultrafiloteowym (UPS) służy do analizy składu i stanów chemicznych pierwiastków na powierzchni badanego materiału. Laboratorium wyposażone jest w spektrometr fotoelektronów XPS/UPS model PHI 5000 VersaProbeII (ULVAC-PHI, Chigasaki, Japan). Urządzenie to wyposażone jest w hemisferyczny analizator energii elektronów o wysokiej rozdzielczości energetycznej oraz czuły, mikrokanałowy detektor (channel plate). Rejestruje on fotoelektrony emitowane przez monochromatyczne źródło promieniowania rentgenowskiego (Al Kα 1486.6 eV) lub źródło promieniowania w zakresie ultrafioletu (He I 21.2 eV, He II 40.8 eV). Spektrometr wyposażony jest w działo jonowe umożliwiające profilowanie głębokościowe wiązką klastrów argonu o rozmiarach z zakresu 1000 - 5000 atomów/klaster przyśpieszanych energiami 5-20 keV (Argon Gas Cluster Ion Beam – Ar-GCIB). Dodatkowo drugie działo jonowe umożliwia rozpylanie wiązką mono-atomowych jonów argonu o maksymalnej energii 5 keV. W trakcie badań materiał może być chłodzony lub podgrzewany w zakresie od -120oC do 500oC. Pięcio-osiowy manipulator umożliwia przeprowadzenie analizy w zależności od kąta ustawienia próbki względem osi analizatora (AR-XPS) oraz prowadzenia rozpylania jonowego na obracającej się próbce (rotacja Zalara).

Zastosowanie:

  • analiza ilościowa składu chemicznego oraz określenie stanu chemicznego pierwiastków w warstwie powierzchniowej o grubości ok. 5 nm

  • analiza rozkładu pierwiastków wraz z identyfikacją ich stanu chemicznego na powierzchni z minimalną powierzchniową zdolnością rozdzielczością 10 µm

  • wyznaczanie stężenia pierwiastków wraz z identyfikacją ich stanu chemicznego względem głębokości (profilowanie głębokościowe) z minimalną zdolnością rozdzielcza względem głębokości 10 nm

Osoba kontaktowa:

Dr inż. Mateusz M. Marzec

    
Spektrometr fotoelektronów
    
Spektrometr fotoelektronów